| Dokument-Nr: | | Titel |
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| DIN EN 60749-7 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 7: Messung des inneren Feuchtegehaltes und Analyse von anderen Restgasen (IEC 60749-7:2011); Deutsche Fassung EN 60749-7:2011 |
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| DIN EN 60749-21 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 21: Lötbarkeit (IEC 60749-21:2011); Deutsche Fassung EN 60749-21:2011 |
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| DIN EN 60749-29 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 29: Latch-up-Prüfung (IEC 60749-29:2011); Deutsche Fassung EN 60749-29:2011 |
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| DIN EN 60749-30 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 30: Behandlung nicht hermetisch verkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente vor Zuverlässigkeitsprüfungen (IEC 60749-30:2005 + A1:2011); Deutsche Fassung EN 60749-30:2005 + A1:2011 |
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| DIN EN 60749-40 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 40: Prüfverfahren zum Fall einer Leiterplatte unter Verwendung von Dehnungsmessstreifen (IEC 60749-40:2011); Deutsche Fassung EN 60749-40:2011 |
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| DIN EN 61954 | | Statische Blindleistungskompensatoren (SVC) - Prüfung von Thyristorventilen (IEC 61954:2011); Deutsche Fassung EN 61954:2011 |
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| DIN EN 62047-5 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 5: Hochfrequenz-MEMS-Schalter (IEC 62047-5:2011); Deutsche Fassung EN 62047-5:2011 |
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| DIN EN 62047-7 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 7: BAW-MEMS-Filter und -Duplexer zur Hochfrequenz-Regelung und -Auswahl (IEC 62047-7:2011); Deutsche Fassung EN 62047-7:2011 |
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| DIN EN 62047-8 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 8: Streifen-Biege-Prüfverfahren zur Messung von Zugbeanspruchungsmerkmalen dünner Schichten (IEC 62047-8:2011); Deutsche Fassung EN 62047-8:2011 |
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| DIN EN 62047-9 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 9: Prüfverfahren zur Festigkeit von Full-Wafer-Bondverbindungen in der Mikrosystemtechnik (MEMS) (IEC 62047-9:2011); Deutsche Fassung EN 62047-9:2011 |
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| DIN EN 62047-10 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 10: Druckprüfverfahren an zylinderförmigen Mikroproben für Werkstoffe der Mikrosystemtechnik (IEC 62047-10:2011); Deutsche Fassung EN 62047-10:2011 |
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| DIN EN 62258-2 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse - Teil 2: Datenaustausch-Formate (IEC 62258-2:2011); Englische Fassung EN 62258-2:2011 |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-12 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-12: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Feinraster-Land-Grid-Array (FLGA) (IEC 60191-6-12:2011) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60747-5-5 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente - Teil 5-5: Optoelektronische Bauelemente - Optokoppler (IEC 60747-5-5:2007) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-30 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 30: Behandlung nicht hermetisch verkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente vor Zuverlässigkeitsprüfungen (IEC 60749-30:2005 + A1:2011) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62047-8 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 8: Streifen-Biege-Prüfverfahren zur Messung von Zugbeanspruchungsmerkmalen dünner Schichten (IEC 62047-8:2011) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62258-2 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse - Teil 2: Datenaustausch-Formate (IEC 62258-2:2011) |
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| UL 1557 | | Elektrisch getrennte Halbleiterbauelemente |
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| DIN 4000-18 | | Sachmerkmal-Leisten für Halbleiter-Dioden |
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| DIN 4000-19 | | Sachmerkmal-Leisten für Transistoren und Thyristoren |
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| DIN EN 60204-33 | | Sicherheit von Maschinen - Elektrische Ausrüstungen von Maschinen - Teil 33: Anforderungen an Fertigungseinrichtungen für Halbleiter (IEC 60204-33:2009, modifiziert); Deutsche Fassung EN 60204-33:2011 |
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| DIN EN 60617-5 | | Graphische Symbole für Schaltpläne - Teil 5: Schaltzeichen für Halbleiter und Elektronenröhren (IEC 60617-5:1996); Deutsche Fassung EN 60617-5:1996 |
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| DIN EN 60700-1 | | Thyristorventile für Hochspannungsgleichstrom-Energieübertragung (HGÜ) - Teil 1: Elektrische Prüfung (IEC 60700-1:1998 + A1:2003 + A2:2008); Deutsche Fassung EN 60700-1:1998 + A1:2003 + A2:2008 |
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| DIN EN 60747-3 | | Halbleiterbauelemente - Teil 3: Signaldioden (einschließlich Schaltdioden) und Stabilisatordioden (IEC 47E/395/CD:2010) |
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| DIN EN 60747-15 | | Einzel-Halbleiterbauelemente - Teil 15: Isolierte Leistungshalbleiter (IEC 60747-15:2003); Deutsche Fassung EN 60747-15:2004 |
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| DIN EN 60747-16-1 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-1: Integrierte Mikrowellen-Verstärker (IEC 60747-16-1:2001 + A1:2007); Deutsche Fassung EN 60747-16-1:2002 + A1:2007 |
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| DIN EN 60747-16-4 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-4: Integrierte Mikrowellenschaltkreise - Schalter (IEC 60747-16-4:2004 + A1:2009); Deutsche Fassung EN 60747-16-4:2004 + A1:2011 |
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| DIN EN 60749-1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 1: Allgemeines (IEC 60749-1:2002 + Corr. 1:2003); Deutsche Fassung EN 60749-1:2003 |
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| DIN EN 60749-2 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 2: Niedriger Luftdruck (IEC 60749-2:2002); Deutsche Fassung EN 60749-2:2002 |
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| DIN EN 60749-3 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 3: Äußere Sichtprüfung (IEC 60749-3:2002); Deutsche Fassung EN 60749-3:2002 |
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| DIN EN 60749-4 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 4: Feuchte Wärme, konstant, Prüfung mit hochbeschleunigter Wirkung (HAST) (IEC 60749-4:2002); Deutsche Fassung EN 60749-4:2002 |
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| DIN EN 60749-5 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 5: Lebensdauerprüfung bei konstanter Temperatur und Feuchte unter elektrischer Beanspruchung (IEC 60749-5:2003); Deutsche Fassung EN 60749-5:2003 |
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| DIN EN 60749-6 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 6: Lagerung bei hoher Temperatur (IEC 60749-6:2002); Deutsche Fassung EN 60749-6:2003 |
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| DIN EN 60749-8 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 8: Dichtheit (IEC 60749-8:2002 + Corr. 1:2003 + Corr. 2:2003); Deutsche Fassung EN 60749-8:2003 |
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| DIN EN 60749-9 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 9: Beständigkeit der Kennzeichnung (IEC 60749-9:2002); Deutsche Fassung EN 60749-9:2002 |
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| DIN EN 60749-10 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 10: Mechanisches Schocken (IEC 60749-10:2002); Deutsche Fassung EN 60749-10:2002 |
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| DIN EN 60749-11 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 11: Rascher Temperaturwechsel; Zweibäderverfahren (IEC 60749-11:2002); Deutsche Fassung EN 60749-11:2002 |
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| DIN EN 60749-12 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 12: Schwingen, variable Frequenz (IEC 60749-12:2002); Deutsche Fassung EN 60749-12:2002 |
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| DIN EN 60749-13 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 13: Salzatmosphäre (IEC 60749-13:2002); Deutsche Fassung EN 60749-13:2002 |
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| DIN EN 60749-14 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 14: Festigkeit der Bauelementeanschlüsse (Unversehrtheit der Anschlüsse) (IEC 60749-14:2003); Deutsche Fassung EN 60749-14:2003 |
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| DIN EN 60749-15 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 15: Beständigkeit gegen Löttemperatur bei Bauelementen zur Durchsteckmontage (IEC 60749-15:2010); Deutsche Fassung EN 60749-15:2010 + AC:2011 |
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| DIN EN 60749-16 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 16: Nachweis des Teilchen-Aufprallgeräusches (PIND) (IEC 60749-16:2003); Deutsche Fassung EN 60749-16:2003 |
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| DIN EN 60749-17 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 17: Neutronenbestrahlung (IEC 60749-17:2003); Deutsche Fassung EN 60749-17:2003 |
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| DIN EN 60749-18 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 18: Ionisierende Strahlung (Gesamtdosis) (IEC 60749-18:2002); Deutsche Fassung EN 60749-18:2003 |
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| DIN EN 60749-19 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 19: Prüfung der Chip-Bondfestigkeit (IEC 60749-19:2003 + A1:2010); Deutsche Fassung EN 60749-19:2003 + A1:2010 |
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| DIN EN 60749-20 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 20: Beständigkeit kunststoffverkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente (SMD) gegenüber der kombinierten Beanspruchung von Feuchte und Lötwärme (IEC 60749-20:2008); Deutsche Fassung EN 60749-20:2009 |
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| DIN EN 60749-20-1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 20-1: Handhabung, Verpackung, Kennzeichnung und Transport oberflächenmontierbarer Bauelemente, die empfindlich gegen die Kombination von Feuchte und Lötwärme sind (IEC 60749-20-1:2009); Deutsche Fassung EN 60749-20-1:2009 |
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| DIN EN 60749-22 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 22: Kontaktfestigkeit (Bond-Strength) (IEC 60749-22:2002 + Corr. 1:2003); Deutsche Fassung EN 60749-22:2003 |
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| DIN EN 60749-23 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 23: Lebensdauer bei hoher Temperatur (IEC 60749-23:2004 + A1:2011); Deutsche Fassung EN 60749-23:2004 + A1:2011 |
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| DIN EN 60749-24 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 24: Beschleunigte Verfahren für Feuchtebeständigkeit - Hochbeschleunigte Wirkung (HAST) ohne elektrische Beanspruchung (IEC 60749-24:2004); Deutsche Fassung EN 60749-24:2004 |
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| DIN EN 60749-25 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 25: Zyklische Temperaturwechsel (IEC 60749-25:2003); Deutsche Fassung EN 60749-25:2003 |
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| DIN EN 60749-27/A1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 27: Prüfung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD) - Machine Model (MM) (IEC 47/2107/CDV:2011); Deutsche Fassung EN 60749-27:2006/FprA1:2011 |
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| DIN EN 60749-31 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 31: Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehäusen (Selbstentzündung) (IEC 60749-31:2002 + Corr. 1:2003); Deutsche Fassung EN 60749-31:2003 |
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| DIN EN 60749-32 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 32: Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehäusen (Fremdentzündung) (IEC 60749-32:2002 + Cor. :2003 + A1:2010); Deutsche Fassung EN 60749-32:2003 + Cor. :2003 + A1:2010 |
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| DIN EN 60749-33 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 33: Beschleunigte Verfahren für Feuchtebeständigkeit - Autoclave ohne elektrische Beanspruchung (IEC 60749-33:2004); Deutsche Fassung EN 60749-33:2004 |
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| DIN EN 60749-34 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 34: Lastwechselprüfung (IEC 60749-34:2010); Deutsche Fassung EN 60749-34:2010 |
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| DIN EN 60749-35 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 35: Ultraschallmikroskopie für kunststoffverkappte Bauelemente der Elektronik (IEC 60749-35:2006); Deutsche Fassung EN 60749-35:2006 |
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| DIN EN 60749-36 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 36: Gleichmäßiges Beschleunigen (IEC 60749-36:2003); Deutsche Fassung EN 60749-36:2003 |
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| DIN EN 60749-37 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 37: Prüfverfahren Fall der Leiterplatte unter Verwendung eines Beschleunigungs-Messgerätes (IEC 60749-37:2008); Deutsche Fassung EN 60749-37:2008 |
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| DIN EN 60749-38 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 38: Soft-Error-Prüfverfahren für Halbleiterbauelemente mit Speicher (IEC 60749-38:2008); Deutsche Fassung EN 60749-38:2008 |
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| DIN EN 61643-321 | | Bauelemente für Überspannungsschutzgeräte für Niederspannung - Teil 321: Festlegungen für Avalanche-Dioden (ABD) (IEC 61643-321:2001); Deutsche Fassung EN 61643-321:2002 |
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| DIN EN 61643-341 | | Bauelemente für Überspannungsschutzgeräte für Niederspannung - Teil 341: Festlegungen für Suppressordioden (TSS) (IEC 61643-341:2001); Deutsche Fassung EN 61643-341:2001 |
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| DIN EN 61954-100 | | Statische Blindleistungskompensatoren (SVC) - Prüfung von Thyristorventilen (IEC 22F/251/CD:2011) |
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| DIN EN 61975 | | Anlagen zur Hochspannungsgleichstromübertragung (HGÜ) - Systemprüfungen (IEC 61975:2010); Deutsche Fassung EN 61975:2010 |
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| DIN EN 62047-1 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 1: Begriffe und Definitionen (IEC 62047-1:2005); Deutsche Fassung EN 62047-1:2006 |
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| DIN EN 62047-2 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 2: Prüfverfahren zur Zugbeanspruchung bei Dünnschicht-Werkstoffen (IEC 62047-2:2006); Deutsche Fassung EN 62047-2:2006 |
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| DIN EN 62047-3 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 3: Dünnschicht-Standardmikroprobe für die Prüfung der Zugbeanspruchung (IEC 62047-3:2006); Deutsche Fassung EN 62047-3:2006 |
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| DIN EN 62047-4 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 4: Fachgrundspezifikation für Mikrosystemtechnik (IEC 62047-4:2008); Deutsche Fassung EN 62047-4:2010 |
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| DIN EN 62047-6 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 6: Prüfverfahren zur uniaxialen Dauerschwingfestigkeit von Dünnschicht-Werkstoffen (IEC 62047-6:2009); Deutsche Fassung EN 62047-6:2010 |
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| DIN EN 62047-14 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 14: Verfahren zur Ermittlung der Grenzformänderung metallischer Dünnschichtwerkstoffe (IEC 47F/59/CD:2010) |
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| DIN EN 62047-17 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 17: Wölbungs-Prüfverfahren zur Bestimmung mechanischer Eigenschaften dünner Schichten (IEC 47F/78/CD:2011) |
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| DIN EN 62047-18 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 18: Biegeprüfverfahren für Dünnschichtwerkstoffe (IEC 47F/76/CD:2011) |
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| DIN EN 62258-1 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse - Teil 1: Beschaffung und Anwendung (IEC 62258-1:2009); Deutsche Fassung EN 62258-1:2010 |
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| DIN EN 62373 | | Stabilitätsprüfung unter Temperatur-Spannungs-Beanspruchung für Feldeffekttransistoren mit Metalloxid-Halbleiter (MOSFET) (IEC 62373:2006); Deutsche Fassung EN 62373:2006 |
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| DIN EN 62374 | | Halbleiterbauelemente - Prüfung des zeitabhängigen dielektrischen Durchbruchs (TDDB) für dielektrische Gate-Schichten (IEC 62374:2007); Deutsche Fassung EN 62374:2007 |
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| DIN EN 62374-1 | | Halbleiterbauelemente - Teil 1: Prüfung auf zeitabhängigen dielektrischen Durchbruch (TDDB) bei Isolationsschichten zwischen metallischen Leiterbahnen (IEC 62374-1:2010); Deutsche Fassung EN 62374-1:2010 + AC:2011 |
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| DIN EN 62415 | | Halbleiterbauelemente - Konstantstrom-Prüfverfahren zur Elektromigration (IEC 62415:2010); Deutsche Fassung EN 62415:2010 |
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| DIN EN 62416 | | Halbleiterbauelemente - Hot-Carrier-Prüfverfahren für MOS-Transistoren (IEC 62416:2010); Deutsche Fassung EN 62416:2010 |
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| DIN EN 62418 | | Halbleiterbauelemente - Prüfverfahren zur Metallisierungs-Stressmigration (IEC 62418:2010); Deutsche Fassung EN 62418:2010 |
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| DIN EN 62477-1 | | Sicherheitsanforderungen an Leistungshalbleiter-Umrichtersysteme - Teil 1: Allgemeines (IEC 22/168/CDV:2010); Deutsche Fassung FprEN 62477-1:2010 |
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| DIN EN 120003 | | Vordruck für Bauartspezifikation - Phototransistoren, Photo-Darlington-Transistoren, Phototransistorzeilen; Deutsche Fassung EN 120003:1992 |
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| DIN EN 153000 | | Fachgrundspezifikation: Druckkontakt-Einzel-Leistungshalbleiterelemente (Befähigungsanerkennung); Deutsche Fassung EN 153000:1998 |
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| DIN IEC 60115-2 | | Festwiderstände zur Verwendung in Geräten der Elektronik - Teil 2: Rahmenspezifikation - Niedrig belastbare nichtdrahtgewickelte Festwiderstände (IEC 40/2013/CD:2009) |
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| DIN IEC 60747-2 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente und Integrierte Schaltungen - Teil 2: Gleichrichtdioden (IEC 60747-2:2000) |
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| DIN IEC 60747-3 | | Halbleiterbauelemente; Einzel-Halbleiterbauelemente; Teil 3: Signaldioden und Stabilisatordioden; Identisch mit IEC 60747-3:1985 |
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| DIN IEC 60747-4 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente - Teil 4: Mikrowellendioden und -transistoren (IEC 47E/265/CD:2004) |
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| DIN IEC 60747-7 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente - Teil 7: Bipolartransistoren (IEC 47E/324/CD:2007) |
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| DIN IEC 60747-8 | | Halbleiterbauelemente - Einzelhalbleiterbauelemente - Teil 8: Feldeffekttransistoren (IEC 47E/320/CD:2007) |
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| DIN IEC 60747-11 | | Halbleiterbauelemente; Rahmenspezifikation für Einzel-Halbleiterbauelemente; Identisch mit IEC 60747-11:1985 |
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| DIN IEC 60747-14-4 | | Diskrete Halbleiterbauelemente - Teil 14-4: Halbleiter-Beschleunigungsaufnehmer (IEC 47E/220/CD:2002) |
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| DIN IEC 60747-14-5 | | Halbleiterbauelemente - Teil 14-5: Halbleitersensoren - Halbleiter-Temperatursensoren mit PN-Übergang (IEC 47E/353/CD:2007) |
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| DIN IEC 60747-15 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente - Teil 15: Isolierte Leistungshalbleiter (IEC 47E/322/CD:2007) |
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| DIN IEC 60747-16-5 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-5: Integrierte Mikrowellenschaltkreise - Oszillatoren (IEC 47E/374/CD:2008) |
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| DIN IEC 60749-26 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 26: Prüfung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD) - Human Body Model (HBM) - Bauelementeniveau (IEC 47/2101A/CDV:2011) |
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| DIN IEC 62047-11 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 11: Prüfverfahren für lineare thermische Ausdehnungskoeffizienten für Werkstoffe der Mikrosystemtechnik (IEC 47F/49/CD:2010) |
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| DIN IEC 62047-12 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 12: Verfahren zur Prüfung der Ermüdungsfestigkeit von Dünnschichtwerkstoffen unter Verwendung der Resonanzschwingungen bei MEMS-Strukturen (IEC 47F/43/CD:2010) |
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| DIN IEC 62047-13 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 13: Biege- und Scherprüfverfahren zur Messung der Haftfestigkeit mikromechanischer Strukturen (IEC 47F/44/CD:2010) |
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| DIN V VDE V 0884-10 | | Halbleiterbauelemente - Magnetische und kapazitive Koppler für sichere Trennung |
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| DIN V VDE V 0884-10 Berichtigung 1 | | Halbleiterbauelemente - Magnetische und kapazitive Koppler für sichere Trennung; Berichtigungen zu DIN V VDE V 0884-10 (VDE V 0884-10):2006-12 |
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| ISO/TTA 4 | | Messung der Wärmeleitfähigkeit von dünnen Schichten auf Siliciumsubstraten |
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| ASTM E 427 | | Dichtheitsprüfung mit Halogen-Lecksuchgerät (Diode mit Alkali-Ion) |
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| ASTM E 431 | | Leitfaden über die Auswertung von Durchstrahlungsbildern von Halbleitern und ähnlichen Bauelementen |
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| ASTM F 1190 | | Neutronendurchstrahlung vorspannungsfreier Elektronikbauteile |
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| SN EN 60700-1+A1+A2 | | Thyristorventile für Hochspannungsgleichstrom-Energieübertragung (HGÜ) - Teil 1: Elektrische Prüfung |
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| SN EN 60747-15 | | Einzel-Halbleiterbauelemente. Teil 15: Isolierte Leistungshalbleiter |
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| SN EN 60747-16-1+A1 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-1: Integrierte Mikrowellen-Verstärker |
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| SN EN 60747-16-4+A1 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-4: Integrierte Mikrowellenschaltkreise - Schalter |
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| SN EN 60749-14 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 14: Festigkeit der Bauelementeanschlüsse (Unversehrtheit der Anschlüsse) |
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| SN EN 60749-15 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 15: Beständigkeit gegen Löttemperatur bei Bauelementen zur Durchsteckmontage |
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| SN EN 60749-19 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 19: Prüfung der Chip-Bondfestigkeit |
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| SN EN 60749-20 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 20: Beständigkeit kunststoffverkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente (SMD) gegenüber der kombinierten Beanspruchung von Feuchte und Lötwärme |
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| SN EN 60749-20-1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 20-1: Handhabung, Verpackung, Kennzeichnung und Transport oberflächenmontierbarer Bauelemente, die empfindlich gegen die Kombination von Feuchte und Lötwärme sind |
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| SN EN 60749-21 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 21: Lötbarkeit |
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| SN EN 60749-23+A1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 23: Lebensdauer bei hoher Temperatur |
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| SN EN 60749-24 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 24: Beschleunigte Verfahren für Feuchtebeständigkeit - Hochbeschleunigte Wirkung (HAST) ohne elektrische Beanspruchung |
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| SN EN 60749-25 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 25: Zyklische Temperaturwechsel (IEC 60749-25:2003) |
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| SN EN 60749-26 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 26: Prüfung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD) - Human Body Model (HBM) |
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| SN EN 60749-27 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 27: Prüfung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD) - Machine Model (MM) |
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| SN EN 60749-29 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 29: Latch-up-Prüfung |
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| SN EN 60749-30+A1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 30: Behandlung nicht hermetisch verkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente vor Zuverlässigkeitsprüfungen |
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| SN EN 60749-32+A1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 32: Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehäusen (Fremdentzündung) |
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| SN EN 60749-33 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 33: Beschleunigte Verfahren für Feuchtebeständigkeit - Autoclave ohne elektrische Beanspruchung |
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| SN EN 60749-34 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 34: Lastwechselprüfung |
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| SN EN 60749-35 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Teil 35: Ultraschallmikroskopie für kunststoffverkappte Bauelemente der Elektronik |
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| SN EN 61051-1 | | Varistoren zur Verwendung in Geräten der Elektronik - Teil 1: Fachgrundspezifikation |
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| SN EN 61643-321 | | Bauelemente für Überspannungsschutzgeräte für Niederspannung. Teil 321: Festlegungen für Avalanche-Dioden (ABD) |
|
| SN EN 61954+A1 | | Leistungselektronik für Übertragungs- und Verteilungsnetze - Prüfung von Thyristorventilen für statische Blindleistungskompensatoren |
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| SN EN 61975 | | Anlagen zur Hochspannungsgleichstromübertragung (HGÜ) - Systemprüfungen |
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| SN EN 62047-1 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 1: Begriffe und Definitionen (IEC 62047-1:2005) |
|
| SN EN 62047-2 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik. Teil 2: Prüfverfahren zur Zugbeanspruchung bei Dünnschicht-Werkstoffen |
|
| SN EN 62047-3 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik. Teil 3: Dünnschicht-Standardmikroprobe für die Prüfung der Zugbeanspruchung |
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| SN EN 62047-4 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 4: Fachgrundspezifikation für Mikrosystemtechnik |
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| SN EN 62047-6 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 6: Prüfverfahren zur uniaxialen Dauerschwingfestigkeit von Dünnschicht- Werkstoffen |
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| SN EN 62373 | | Stabilitätsprüfung unter Temperatur-Spannungs-Beanspruchung für Feldeffekttransistoren mit Metalloxid-Halbleiter (MOSFET) (IEC 62373:2006) |
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| SN EN 62374 | | Halbleiterbauelemente - Prüfung des zeitabhängigen dielektrischen Durchbruchs (TDDB) für dielektrische Gate-Schichten |
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| SN EN 62374-1 | | Halbleiterbauelemente - Teil 1: Prüfung auf zeitabhängigen dielektrischen Durchbruch (TDDB) bei Isolationsschichten zwischen metallischen Leiterbahnen |
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| SN EN 62415 | | Halbleiterbauelemente - Konstantstrom-Prüfverfahren zur Elektromigration |
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| SN EN 62416 | | Halbleiterbauelemente - Hot-Carrier-Prüfverfahren für MOS-Transistoren |
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| SN EN 62418 | | Halbleiterbauelemente - Prüfverfahren zur Metallisierungs-Stressmigration |
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| SN EN 150014 | | Vordruck für Bauartspezifikation: Thyristor-Dioden, Überspannungs-Begrenzer |
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| SN EN 153000 | | Fachgrundspezifikation: Druckkontakt-Einzel-Leistungshalbleiterelemente (Befähigungsanerkennung) |
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| SN ES 59001 | | Anerkennungsverfahren - Elektronische Bauelemente für den Einsatz in Kraftfahrzeugen - Qualifikationsprüfung (Streßtest) für Halbleiter |
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| BS 6493-1.3 | | Halbleiter-Bauelemente. Einzelhalbleiter. Empfehlungen fuer Signal- (einschliesslich Schalt-) und Steuerdioden |
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| BS 9300 C199-276 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C377-378 | | Silizium-Koaxialmischdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C379-388 | | Stiftmontierte Silizium-Leistungsgleichrichterdioden. Detailspezifikation |
|
| BS 9300 C405-429 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C476 | | Silizium-Lawinengleichrichterdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C534 | | Silizium-Koaxialwiderstandsschaltdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C582-584 | | Rueckwaerts sperrende Thyristortriode. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C599 | | Stabmontierte Silizium-Mikrowellenschaltdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C667-668 | | Silizium-Lawinengleichrichterdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C678-721 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C762 | | Mischdioden fuer den Einsatz auf X-Bandfrequenzen. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C771-772 | | Koaxialmischdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C776-777 | | Germanium-Koaxialmischdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C778 | | Angepasste Germanium-Koaxialmischdioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C780-831 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation |
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| BS 9300 C841-849 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation |
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| BS 9301 N002 | | Silizium-Signaldioden fuer den allgemeinen Gebrauch. Detailspezifikation. 150 mA, 150 V, hermetisch verschmolzene Glaskapselung. Universalkategorie Q |
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| BS 9305 N001 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation. 1,5 W, 3,3 bis 33 V (5%), hermetisch abgedichtet. Universalkategorie Q |
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| BS 9305 N041 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation. 400 mW, 2,7 bis 33 V (5%), hermetisch verschmolzene Glaskapselung. Universalkategorie Q |
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| BS 9305 N042 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation. 1,5 W, 6,8 bis 200 V (5%), hermetisch abgedichtet. Universalkategorie C |
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| BS 9305 N044 | | Silizium-Stabilisatordioden. Detailspezifikation. 1,0 W, 3,3 bis 33 V (5%), hermetisch abgedichtet. Volles Guetebestaetigungsniveau |
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| BS 9364 N007 and N009 | | n-p-n-Silizium-Schalttransistoren mit geringer Leistungsaufnahme. Detailspezifikation. 20 V, planar-epitaxial, umgebungsbezogen, hermetisch abgedichtet. Volles und zusaetzliches Guetebestaetigungsniveau |
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| BS 9364 N008 and N010 | | n-p-n-Silizium-Schalttransistoren mit geringer Leistungsaufnahme (Langleitungstyp). Detailspezifikation. 20 V, planar-epitaxial, umgebungsbezogen, hermetisch abgedichtet. Volles und zusaetzliches Guetebestaetigungsniveau |
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| BS 9364 N011 | | p-n-p-Silizium-Schalttransistoren mit geringer Leistungsaufnahme. Detailspezifikation. 65 V, planar-epitaxial, umgebungsbezogen, hermetisch abgedichtet. Volles und zusaetzliches Guetebestaetigungsniveau |
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| BS 9364 N012 | | p-n-p-Silizium-Schalttransistoren mit geringer Leistungsaufnahme (Langleitungstyp). Detailspezifikation. 65 V, planar-epitaxial, umgebungsbezogen, hermetisch abgedichtet. Volles und zusaetzliches Guetebestaetigungsniveau |
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| BS 9364 N013 | | p-n-p-Silizium-Schalttransistoren mit geringer Leistungsaufnahme. Detailspezifikation. 25 V, planar-epitaxial, umgebungsbezogen, hermetisch abgedichtet. Volles und zusaetzliches Guetebestaetigungsniveau |
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| BS 9364 N016 | | n-p-n-Silizium-Schalttransistoren mit geringer Leistungsaufnahme. Detailspezifikation. 65 V, planar-epitaxial, umgebungsbezogen, hermetisch abgedichtet. Volles und zusaetzliches Guetebestaetigungsniveau |
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| BS 9364 N017 | | n-p-n-Silizium-Schalttransistoren mit geringer Leistungsaufnahme (Langleitungstyp). Detailspezifikation. 65 V, planar-epitaxial, umgebungsbezogen, hermetisch abgedichtet. Volles und zusaetzliches Guetebestaetigungsniveau |
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| BS CECC 50000 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Fachgrundspezifikation: Einzelhalbleiterbauelemente |
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| BS CECC 50000 Supplement No. 1 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Fachgrundspezifikation: Einzel Halbleiterbauelemente. CECC-bestaetigte mittlere Fertigungsqualitaet |
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| BS EN 60204-33 | | Sicherheit von Maschinen. Elektrische Ausrüstungen von Maschinen. Anforderungen an Fertigungsausrüstungen für Halbleiter |
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| BS EN 60700-1+A2 | | Thyristorventile für Hochspannungsgleichstrom-Energieübertragung. Elektrische Prüfung |
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| BS IEC 60747-2 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente und integrierte Schaltungen - Gleichrichterdioden |
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| BS IEC 60747-4 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente - Mikrowellendioden und-transistoren |
|
| BS IEC 60747-4-1 | | Mikrowellendioden und Transistoren. Mikrowellenfeldeffekt Transistoren. Bauartspezifikation |
|
| BS IEC 60747-4-2 | | Halbleiterbauelemente. Einzel-Halbleiterbauelemente. Mikrowellen-Dioden und -Transistoren. Schaltkreis-Mikrowellenverstaerker. Vordruck fuer Bauartspezifikation |
|
| BS IEC 60747-6 | | Halbleiterbauelemente - Thyristore |
|
| BS IEC 60747-8 | | Halbleiterbauelemente. Einzel-Halbleiterbauelemente. Feldeffekttransistoren |
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| BS IEC 60747-9 | | Halbleiterbauelemente - Einzel-Halbleiterbauelemente - Bipolartransistoren mit isoliertem Gate (IGBTs) |
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| BS IEC 60747-14-2 | | Halbleiterbauelemente - Halbleiter-Sensoren - Hall-Elemente |
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| BS IEC 60747-14-3 | | Halbleiterbauelemente - Halbleitersensoren - Drucksensoren |
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| BS EN 60747-15 | | Einzel-Halbleiterbauelemente. Isolierte Leistungshalbleiter |
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| BS EN 60747-16-1+A1 | | Halbleiterbauelemente - Integrierte Mikrowellen-Verstaerker |
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| BS EN 60747-16-4+A1 | | Halbleiterbauelemente. Integrierte Mikrowellenschaltkreise. Schalter |
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| BS EN 60749-1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Allgemeines |
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| BS EN 60749-2 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Niedriger Luftdruck |
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| BS EN 60749-3 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Aeussere Sichtpruefung |
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| BS EN 60749-4 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Feuchte Waerme, konstant, Pruefung mit hochbeschleunigter Wirkung (HAST) |
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| BS EN 60749-5 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Lebensdauerpruefung bei konstanter Temperatur und Feuchte unter elektrischer Beanspruchung |
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| BS EN 60749-6 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren Lagerung bei hoher Temperatur |
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| BS EN 60749-7 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Messung des inneren Feuchtegehaltes und Analyse von anderen Restgasen |
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| BS EN 60749-8 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Pruefverfahren. Dichtheit |
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| BS EN 60749-9 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Bestaendigkeit der Kennzeichnung |
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| BS EN 60749-10 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Mechanisches Schocken |
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| BS EN 60749-11 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Rascher Temperaturwechsel - Zweibaederverfahren |
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| BS EN 60749-12 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Schwingen, variable Frequenz |
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| BS EN 60749-13 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Salzatmosphaere |
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| BS EN 60749-14 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Festigkeit der Bauelementeanschluesse (Unversehrtheit der Anschluesse) |
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| BS EN 60749-15 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Beständigkeit gegen Löttemperatur bei Bauelementen zur Durchsteckmontage |
|
| BS EN 60749-16 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Nachweis des Teilchen-Aufprallgeraeusches (PIND) |
|
| BS EN 60749-17 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Neutronenbestrahlung |
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| BS EN 60749-18 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren Ionisierende Strahlung (Gesamtdosis) |
|
| BS EN 60749-19+A1 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Prüfung der Chip-Bondfestigkeit |
|
| BS EN 60749-20 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Beständigkeit kunststoffverkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente (SMD) gegenüber der kombinierten Beanspruchung von Feuchte und Lötwärme |
|
| BS EN 60749-20-1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Handhabung, Verpackung, Kennzeichnung und Transport oberflächenmontierbarer Bauelemente, die empfindlich gegen die Kombination von Feuchte und Lötwärme sind |
|
| BS EN 60749-21 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Lötbarkeit |
|
| BS EN 60749-22 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Kontaktfestigkeit (Bond strength) |
|
| BS EN 60749-23+A1 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Lebensdauer bei hoher Temperatur |
|
| BS EN 60749-24 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Beschleunigte Verfahren fuer Feuchtebestaendigkeit - Hochbeschleunigte Wirkung (HAST) ohne elektrische Beanspruchung |
|
| BS EN 60749-25 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Zyklische Temperaturwechsel |
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| BS EN 60749-26 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Pruefverfahren. Pruefung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD). Human Body Model (HBM) |
|
| BS EN 60749-27 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Pruefverfahren. Pruefung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD). Machine Model (MM) |
|
| BS EN 60749-29 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Latch-up-Prüfung |
|
| BS EN 60749-30+A1 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Behandlung nicht hermetisch verkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente vor Zuverlässigkeitsprüfungen |
|
| BS EN 60749-31 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehaeusen (Selbstentzuendung) |
|
| BS EN 60749-32+A1 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehäusen (Selbstentzündung) |
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| BS EN 60749-33 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Beschleunigte Verfahren fuer Feuchtebestaendigkeit - Autoclave ohne elektrische Beanspruchung |
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| BS EN 60749-34 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Lastwechselprüfung |
|
| BS EN 60749-35 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Ultraschallmikroskopie fuer kunststoffverkappte Bauelemente der Elektronik |
|
| BS EN 60749-36 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Pruefverfahren - Gleichmaessiges Beschleunigen |
|
| BS EN 60749-37 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Prüfverfahren Fall der Leiterplatte unter Verwendung eines Beschleunigungs-Messgerätes |
|
| BS EN 60749-38 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Soft-Error-Prüfverfahren für Halbleiterbauelemente mit Speicher |
|
| BS EN 60749-40 | | Halbleiterbauelemente. Mechanische und klimatische Prüfverfahren. Prüfverfahren zum Fall einer Leiterplatte unter Verwendung von Dehnungsmessstreifen |
|
| BS EN 61051-1 | | Varistoren zur Verwendung in Geräten der Elektronik - Fachgrundspezifikation |
|
| BS EN 61643-321 | | Bauelemente fuer Ueberspannungs-schutzgeraete fuer Niederspannung - Festlegungen fuer Avalanche-Dioden (ABD) |
|
| BS EN 61954 | | Static VAR compensators (SVC). Testing of thyristor valves |
|
| BS EN 61975 | | Anlagen zur Hochspannungsgleichstromübertragung (HGÜ). Systemprüfungen |
|
| BS EN 62047-1 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Begriffe und Definitionen |
|
| BS EN 62047-2 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Pruefverfahren zur Zugbeanspruchung bei Duennschicht-Werkstoffen |
|
| BS EN 62047-3 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Duennschicht-Standardmikroprobe fuer die Pruefung der Zugbeanspruchung |
|
| BS EN 62047-4 | | Halbleiterbauelemente. Bauteile der Mikrosystemtechnik. Fachgrundspezifikation für Mikrosystemtechnik |
|
| BS EN 62047-5 | | Halbleiterbauelemente. Bauelemente der Mikrosystemtechnik. Hochfrequenz-MEMS-Schalter |
|
| BS EN 62047-6 | | Halbleiterbauelemente. Bauelemente der Mikrosystemtechnik. Prüfverfahren zur uniaxialen Dauerschwingfestigkeit von Dünnschicht-Werkstoffen |
|
| BS EN 62047-7 | | Halbleiterbauelemente. Bauelemente der Mikrosystemtechnik. BAW-MEMS-Filter und -Duplexer zur Hochfrequenz-Regelung und -Auswahl |
|
| BS EN 62047-8 | | Halbleiterbauelemente. Bauelemente der Mikrosystemtechnik. Streifen-Biege-Prüfverfahren zur Messung von Zugbeanspruchungsmerkmalen dünner Schichten |
|
| BS EN 62047-9 | | Halbleiterbauelemente. Bauelemente der Mikrosystemtechnik. Prüfverfahren zur Festigkeit von Full-Wafer-Bondverbindungen in der Mikrosystemtechnik (MEMS) |
|
| BS EN 62047-10 | | Halbleiterbauelemente. Bauelemente der Mikrosystemtechnik. Druckprüfverfahren an zylinderförmigen Mikroproben für Werkstoffe der Mikrosystemtechnik |
|
| BS EN 62047-12 | | Halbleiterbauelemente. Bauelemente der Mikrosystemtechnik. Verfahren zur Prüfung der Biege-Ermüdungsfestigkeit von Dünnschichtwerkstoffen unter Verwendung der Resonanzschwingungen bei MEMS-Strukturen |
|
| BS EN 62258-1 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse Beschaffung und Anwendung |
|
| BS EN 62258-2 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse. Datenaustausch-Formate |
|
| BS EN 62373 | | Stabilitaetspruefung unter Temperatur-Spannungs-Beanspruchung fuer Feldeffekttransistoren mit Metalloxid-Halbleiter (MOSFET) |
|
| BS EN 62374-1 | | Halbleiterbauelemente. Prüfung auf zeitabhängigen dielektrischen Durchbruch (TDDB) bei Isolationsschichten zwischen metallischen Leiterbahnen |
|
| BS EN 62415 | | Halbleiterbauelemente. Konstantstrom-Prüfverfahren zur Elektromigration |
|
| BS EN 62416 | | Halbleiterbauelemente. Hot-Carrier-Prüfverfahren für MOSTransistoren |
|
| BS EN 62418 | | Halbleiterbauelemente. Prüfverfahren zur Metallisierungs-Stressmigration |
|
| BS DD IEC/PAS 62483 | | Prüfverfahren zur Messung von Whisker-Wachstum bei Oberflächenbeschichtungen aus Zinn oder Zinnlegierung |
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| BS EN 120003 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation. Phototransistoren, Photo-Darlington-Transistoren, Phototransistorzeilen |
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| BS EN 120004 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation. Umgebungsbezogene Optokoppler mit Phototransistor-Ausgang |
|
| BS EN 150001 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation: Allzweckhalbleiterdioden |
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| BS EN 150004 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation: bipolare Transistoren fuer Schalteranwendungen |
|
| BS EN 150006 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation. Kapazitaets - (Variations -) dioden fuer Abstimmzwecke |
|
| BS EN 150010 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation: umgebungsbezogene Thyristoren |
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| BS EN 150012 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation: Feldeffekt-Transistoren mit einer Gate-Elektrode |
|
| BS EN 150013 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation: Stromstabilisator- und Stromreferenzdioden |
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| BS EN 150014 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikation: Thyristor-Dioden, Ueberspannungs-Begrenzer |
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| BS EN 150015 | | Harmonisiertes Guetebestaeigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Vordruck fuer Bauartspezifikationen: Unidirektionale Ueberspannungs-Begrenzer-Dioden |
|
| BS EN 153000 | | Fachgrundspezifikation. Druckkontakt-Einzel-Lestungshalbleiterbauelemente (Befaehigungsanerkennung) |
|
| BS QC 750001 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Einzelhalbleiterbauelemente. Vordruck fuer Bauartspezifikation. Signaldioden, Schaltdioden und Dioden mit kontrolliertem Durchbruch |
|
| BS QC 750005 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Einzelhalbleiterbauelemente. Vardruck fuer Bauartspezifikation. Spannungsstabilator- und Referenzdioden, ausser temperaturkompensierten Praezisions-Referenzdioden |
|
| BS QC 750100+A2 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik. Einzelhalbleiter-Bauelemente. Rahmenspezifikation |
|
| BS QC 750102 | | Halbleiterbauelemente. Einzel-Halbleiterbauelemente. Bipolare Transistoren. Hauptabschnitt 1: Vordruck fuer Bauartspezifikationen fuer umgebungsbezogene bipolare Transistoren fuer NF- und HF-Verstaerkungen |
|
| BS QC 750104 | | Halbleiterbauelemente. Diskrete Bauelemente. Bipolare Transistoren. Vordruck fuer Bauartspezifikation fuer bipolare Transistoren zum Umschalten |
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| BS QC 750108 | | Halbleiterbauelemente. Einzelhalbleiterbauelemente. Gleichrichterdioden. Vordruck fuer Bauartspezifikationen fuer Gleichrichterdioden (einschliesslich Avalance-Gleichrichterdioden), umgebungs- und gehaeusebezogen bis 100 A |
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| BS QC 750109 | | Halbleiterbauelemente. Einzel-Halbleiterbauelemente. Gleichrichterdioden. Vordruck fuer Bauartspezifikationen fuer Gleichrichterdioden (einschliesslich Avalanche Gleichrichterdioden), umgebungs- und gehaeusebezogen fuer Stroeme ueber 100 A |
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| BS QC 750112 | | Harmonisiertes Guetebestaetigungssystem fuer Bauelemente der Elektronik Vordruck fuer Bauartspezifikation. Halbleiter Bauelemente. Diskrete Bauelemente. Feldeffekttransistoren. Vordnick fuer Bauartspezifikation fuer Feldeffekttransistoren mit einer Gate-Elektrode, bis 5 W und 1 GHz |
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| OENORM EN 60821 | | IEC-821-VMEbus - Mikroprozessor-Systembus für 1 Byte bis 4 Byte Daten (IEC 821:1991, modifiziert) |
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| OEVE/OENORM EN 60146-2 | | Halbleiter-Stromrichter - Teil 2: Selbstgeführte Halbleiter-Stromrichter einschließlich Gleichstrom-Direktumrichter (IEC 60146-2:1999) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-1 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 1: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von Einzelhalbleiterbauelementen (IEC 60191-1:2007) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-3 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 3: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen für integrierte Schaltungen (IEC 60191-3:1999) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-4+A1+A2 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 4: Codierungssystem für Gehäuse und Eingruppierung der Gehäuse nach der Gehäuseform für Halbleiterbauelemente (IEC 60191-4:1999 + A1:2001 + A2:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen (IEC 60191-6:2009) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen (IEC 60191-6:2004) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-1 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-1: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Gehäuse mit Gullwing-Anschlüssen (IEC 60191-6-1:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-2 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-2: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Gehäuse mit Kugel- und Säulenanschlüssen in einem Raster von 1,50 mm, 1,27 mm und 1,00 mm (IEC 60191-6-2:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-4 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-4: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Messverfahren für Gehäusemaße von Ball Grid Array (BGA) (IEC 60191-6-4:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-5 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-5: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Feinraster-Ball-Grid-Arrays (FBGA) (IEC 60191-6-5:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-6 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-6: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Feinraster-Land-Grid-Array (FLGA) (IEC 60191-6-6:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-8 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-8: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Glas-Keramik-Quad-Flatpack (G-QFP) (IEC 60191-6-8:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-10 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-10: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - P-VSON Gehäusemaße (IEC 60191-6-10:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-12 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-12: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Feinraster-Land-Grid-Array (FLGA) - Rechteckige Ausführung (IEC 60191-6-12:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-13 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-13: Konstruktionsleitfaden für Open-top-Fassungen für Feinraster-Ball-Grid-Array und Feinraster-Land-Grid-Array (FBGA/FLGA) (IEC 60191-6-13:2007) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-16 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-16: Glossar für Fassungen für die Prüfung und Voralterung von BGA, LGA, FBGA und FLGA (IEC 60191-6-16:2007) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-17 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-17: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für gestapelte Gehäuse - Feinraster-Ball-Grid-Array und Feinraster-Land-Grid-Array (P-PFBGA/P-PFLGA) (IEC 60191-6-17:2011) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-18 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-18: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Konstruktionsleitfaden für Ball-Grid-Array (BGA) (IEC 60191-6-18:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-19 | | Mechanische Normung von Halbleiterbaulementen - Teil 6-19: Messverfahren für die Gehäuse-Verbiegung bei erhöhter Temperatur und die maximal zulässige Verbiegung (IEC 60191-6-19:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-20 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-20: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Messverfahren für Gehäusemaße von kleinen Gehäusen mit J-förmigen Anschlüssen (SOJ) (IEC 60191-6-20:2010) |
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| OEVE/OENORM EN 60191-6-21 | | Mechanische Normung von Halbleiterbauelementen - Teil 6-21: Allgemeine Regeln für die Erstellung von Gehäusezeichnungen von SMD-Halbleitergehäusen - Messverfahren für Gehäusemaße von kleinen Gehäusen (SOP) (IEC 60191-6-21:2010) |
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| OEVE/OENORM EN 60700-1 | | Thyristorventile für Hochspannungsgleichstrom-Energieübertragung (HGÜ) - Teil 1: Elektrische Prüfung (IEC 60700-1:1998 + A1:2003 + A2:2008) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60747-15 | | Einzel-Halbleiterbauelemente - Teil 15: Isolierte Leistungshalbleiter (IEC 60747-15:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60747-16-1 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-1: Integrierte Mikrowellen-Verstärker (IEC 60747-16-1:2001 + A1:2007) |
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| OEVE/OENORM EN 60747-16-3 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-3: Integrierte Schaltungen zur Frequenzumsetzung von Mikrowellen (IEC 60747-16-3:2002 + A1:2009) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60747-16-3 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-3: Integrierte Schaltungen zur Frequenzumsetzung von Mikrowellen (IEC 60747-16-3:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60747-16-4 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-4: Integrierte Mikrowellenschaltkreise - Schalter (IEC 60747-16-4:2004 + A1:2009) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60747-16-4 | | Halbleiterbauelemente - Teil 16-4: Integrierte Mikrowellenschaltkreise - Schalter (IEC 60747-16-4:2004) |
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| OEVE/OENORM EN 60749+A1+A2 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren (IEC 60749:1996 + A1:2000 + A2:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 1: Allgemeines (IEC 60749-1:2002 + Corrigendum 1:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-2 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 2: Niedriger Luftdruck (IEC 60749-2:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-3 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 3: Äußere Sichtprüfung (IEC 60749-3:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-4 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 4: Feuchte Wärme, konstant, Prüfung mit hochbeschleunigter Wirkung (HAST) (IEC 60749-4:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-5 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 5: Lebensdauerprüfung bei konstanter Temperatur und Feuchte unter elektrischer Beanspruchung (IEC 60749-5:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-6 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 6: Lagerung bei hoher Temperatur (IEC 60749-6:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-7 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 7: Messung des inneren Feuchtegehaltes und Analyse von anderen Restgasen (IEC 60749-7:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-8 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 8: Dichtheit (IEC 60749-8:2002 + Corr.1:2003 + Corr.2:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-9 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 9: Beständigkeit der Kennzeichnung (IEC 60749-9:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-10 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 10: Mechanisches Schocken (IEC 60749-10:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-11 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüvferfahren - Teil 11: Rascher Temperaturwechsel - Zweibäderverfahren (IEC 60749-11:2002 + Corr. 1:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-12 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 12: Schwingen, variable Frequenz (IEC 60749-12:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-13 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 13: Salzatmosphäre (IEC 60749-13:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-14 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 14: Festigkeit der Bauelementeanschlüsse (Unversehrtheit der Anschlüsse) (IEC 60749-14:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-15 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 15: Beständigkeit gegen Löttemperatur bei Bauelementen zur Durchsteckmontage (IEC 60749-15:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-15 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 15: Beständigkeit gegen Löttemperatur bei Bauelementen zur Durchsteckmontage (IEC 60749-15:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-16 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 16: Nachweis des Teilchen-Aufprallgeräusches (PIND) (IEC 60749-16:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-17 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 17: Neutronenbestrahlung (IEC 60749-17:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-18 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 18: Ionisierende Strahlung (Gesamtdosis) (IEC 60749-18:2002) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-19 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 19: Prüfung der Chip-Bondfestigkeit (IEC 60749-19:2003 + A1:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-19 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 19: Prüfung der Chip-Bondfestigkeit (IEC 60749-19:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-20 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 20: Beständigkeit kunststoffverkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente (SMD) gegenüber der kombinierten Beanspruchung von Feuchte und Lötwärme (IEC 60749-20:2002 + Corrigendum 1:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-20 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 20: Beständigkeit kunststoffverkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente (SMD) gegenüber der kombinierten Beanspruchung von Feuchte und Lötwärme (IEC 60749-20:2008) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-20-1 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 20-1: Handhabung, Verpackung, Kennzeichnung und Transport oberflächenmontierbarer Bauelemente, die empfindlich gegen die Kombination von Feuchte und Lötwärme sind (IEC 60749-20-1:2009) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-21 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 21: Lötbarkeit (IEC 60749-21:2004) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-22 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 22: Kontaktfestigkeit (Bond-strength) (IEC 60749-22:2002 + Corrigendum 1:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-23 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 23: Lebensdauer bei hoher Temperatur (IEC 60749-23:2004) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-23 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 23: Lebensdauer bei hoher Temperatur (IEC 60749-23:2004 + A1:2011) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-24 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 24: Beschleunigte Verfahren für Feuchtebeständigkeit - Hochbeschleunigte Wirkung (HAST) ohne elektrische Beanspruchung (IEC 60749-24:2004) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-25 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 25: Zyklische Temperaturwechsel (IEC 60749-25:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-26 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 26: Prüfung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD) - Human Body Model (HBM) (IEC 60749-26:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-27 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 27: Prüfung der Empfindlichkeit gegen elektrostatische Entladungen (ESD) - Machine Model (MM) (IEC 60749-27:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-29 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 29: Latch-up-Prüfung (IEC 60749-29:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-30 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 30: Behandlung nicht hermetisch verkappter oberflächenmontierbarer Bauelemente vor Zuverlässigkeitsprüfungen (IEC 60749-30:2005) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-31 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 31: Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehäusen (Selbstentzündung) (IEC 60749-31:2002 + Corrigendum 1:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-32 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 32: Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehäusen (Fremdentzündung) (IEC 60749-32:2002 + Corrigendum 1:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-32 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 32: Entflammbarkeit von Bauelementen in Kunststoffgehäusen (Fremdentzündung) (IEC 60749-32:2002 + Cor. : 2003 + A1:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-33 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 33: Beschleunigte Verfahren für Feuchtebeständigkeit - Autoclave ohne elektrische Beanspruchung (IEC 60749-33:2004) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-34 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 34: Lastwechselprüfung (IEC 60749-34:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-34 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 34: Lastwechselprüfung (IEC 60749-34:2004) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-35 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 35: Ultraschallmikroskopie für kunststoffverkappte Bauelemente der Elektronik (IEC 60749-35:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-36 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 36: Gleichmäßiges Beschleunigen (IEC 60749-36:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-37 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 37: Prüfverfahren Fall der Leiterplatte unter Verwendung eines Beschleunigungs-Messgerätes (IEC 60749-37:2008) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-38 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 38: Soft-Error-Prüfverfahren für Halbleiterbauelemente mit Speicher (IEC 60749-38:2008) |
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| OEVE/OENORM EN 60749-39 | | Halbleiterbauelemente - Mechanische und klimatische Prüfverfahren - Teil 39: Messung des Feuchtediffusionskoeffizienten und der Wasserlöslichkeit in organischen Werkstoffen, welche bei Halbleiter-Komponenten verwendet werden (IEC 60749-39:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 61643-321 | | Bauelemente für Überspannungsschutzgeräte für Niederspannung - Teil 321: Festlegungen für Avalanche-Dioden (ABD) (IEC 61643-321:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 61643-341 | | Bauelemente für Überspannungsschutzgeräte für Niederspannung - Teil 341: Festlegungen für Suppressordioden (TSS) (IEC 61643-341:2001) |
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| OEVE/OENORM EN 61954+A1 | | Leistungselektronik für Übertragungs- und Verteilungsnetze - Prüfung von Thyristorventilen für statische Blindleistungskompensatoren (IEC 61954:1999 + A1:2003) |
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| OEVE/OENORM EN 61975 | | Anlagen zur Hochspannungsgleichstromübertragung (HGÜ) - Systemprüfungen (IEC 61975:2010) |
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| OEVE/OENORM EN 62007-1 | | Optoelektronische Halbleiterbauelemente für Anwendungen in Lichtwellenleitersystemen - Teil 1: Vorlage für Leistungsspezifikationen für wesentliche Grenz- und Kennwerte (IEC 62007-1:2008) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62007-2 | | Optoelektronische Halbleiterbauelemente für Anwendungen in Lichtwellenleitersystemen - Teil 2: Messverfahren (IEC 62007-2:2009) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62031 | | LED-Module für Allgemeinbeleuchtung - Sicherheitsanforderungen (IEC 62031:2008) |
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| OEVE/OENORM EN 62047-1 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 1: Begriffe und Definitionen (IEC 62047-1:2005) |
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| OEVE/OENORM EN 62047-2 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 2: Prüfverfahren zur Zugbeanspruchung bei Dünnschicht-Werkstoffen (IEC 62047-2:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 62047-3 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 3: Dünnschicht-Standardmikroprobe für die Prüfung der Zugbeanspruchung (IEC 62047-3:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 62047-4 | | Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 4: Fachgrundspezifikation für Mikrosystemtechnik (IEC 62047-4:2008) |
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| OEVE/OENORM EN 62047-6 | | Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 6: Prüfverfahren zur uniaxialen Dauerschwingfestigkeit von Dünnschicht-Werkstoffen (IEC 62047-6:2009) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62258-1 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse - Teil 1: Anforderungen für Beschaffung und Anwendung (IEC 62258-1:2005) |
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| OEVE/OENORM EN 62258-1 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse - Teil 1: Beschaffung und Anwendung (IEC 62258-1:2009) |
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| OEVE/OENORM EN 62258-2 | | Semiconductor die products - Part 2: Exchange data formats (IEC 62258-2:2005) |
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| OEVE/OENORM EN 62258-5 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse - Teil 5: Anforderungen für Angaben hinsichtlich der elektrischen Simulation (IEC 62258-5:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 62258-6 | | Halbleiter-Chip-Erzeugnisse - Teil 6: Anforderungen für Angaben hinsichtlich der thermischen Simulation (IEC 62258-6:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 62373 | | Stabilitätsprüfung unter Temperatur-Spannungs-Beanspruchung für Feldeffekttransistoren mit Metalloxid-Halbleiter (MOSFET) (IEC 62373:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 62374 | | Halbleiterbauelemente - Prüfung des zeitabhängigen dielektrischen Durchbruchs (TDDB) für dielektrische Gate-Schichten (IEC 62374:2007) |
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| OEVE/OENORM EN 62374-1 | | Halbleiterbauelemente - Teil 1: Prüfung auf zeitabhängigen dielektrischen Durchbruch (TDDB) bei Isolationsschichten zwischen metallischen Leiterbahnen (IEC 62374-1:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62384 | | Gleich- oder wechselstromversorgte elektronische Betriebsgeräte für LED-Module - Anforderungen an die Arbeitsweise (IEC 62384:2006) |
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| OEVE/OENORM EN 62384 | | Gleich- oder wechselstromversorgte elektronische Betriebsgeräte für LED-Module - Anforderungen an die Arbeitsweise (IEC 62384:2006 + A1:2009) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62415 | | Halbleiterbauelemente - Konstantstrom-Prüfverfahren zur Elektromigration (IEC 62415:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62416 | | Halbleiterbauelemente - Hot-Carrier-Prüfverfahren für MOS-Transistoren (IEC 62416:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62417 | | Halbleiterbauelemente - Prüfverfahren auf mobile Ionen für Feldeffekttransistoren mit Metall-Oxid-Halbleiter (MOSFET) (IEC 62417:2010) (deutsche Fassung) |
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| OEVE/OENORM EN 62418 | | Halbleiterbauelemente - Prüfverfahren zur Metallisierungs-Stressmigration (IEC 62418:2010) (deutsche Fassung) |
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