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Norm-Entwurf [ZURÜCKGEZOGEN]
DIN 50990:2018-03 - Entwurf
Messung von Schichtendicken - Messung der flächenbezogenen Masse von metallischen Schichten mittels spektrometrischer Messverfahren
- Englischer Titel
- Measurement of coating thickness - Measurement of the area-related mass of metallic layers by means of spectrometric measurement methods
- Erscheinungsdatum
- 2018-02-16
- Ausgabedatum
- 2018-03
- Originalsprachen
- Deutsch
- Seiten
- 13
- Erscheinungsdatum
- 2018-02-16
- Ausgabedatum
- 2018-03
- Originalsprachen
- Deutsch
- Seiten
- 13
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Dieser Norm-Entwurf legt fest, wie mithilfe von spektrometrischen Messverfahren die flächenbezogene Masse von metallischen Schichten auf metallischen oder nichtmetallischen Grundwerkstoffen bestimmt wird, nachdem die Schicht aufgelöst worden ist. Wegen der großen Empfindlichkeit des Messverfahrens ist dieses Verfahren vorzugsweise für die Massenbestimmung dünner Schichten anzuwenden.
Als Messverfahren kommen Atomabsorptionsspektrometrie (Flammentechnik, AAS) sowie optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP - OES) zum Einsatz. Aus der bestimmten Massenkonzentration des Schichtwerkstoffes und der Fläche der Messstelle wird die flächenbezogene Masse berechnet. Bei bekannter Dichte der metallischen Schicht kann daraus die örtliche Schichtdicke berechnet werden.
Dieser Norm-Entwurf wurde durch den Arbeitsausschuss NA 062-01-61 AA "Mess- und Prüfverfahren für Schichten und Schichtsysteme" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.
Dokument wurde ersetzt durch DIN 50990:2018-12 .
Gegenüber DIN 50990:1993-11 und die 2015-11 zurückgezogene Norm DIN 50988-2:1988-04 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Erweiterung des Anwendungsbereiches und daher Überarbeitung des Titels der Norm; b) Regelungsinhalte aus DIN 50988-2 übernommen; c) normative Verweisungen überarbeitet; d) Messmethode ICP ergänzt; e) Tabellen überarbeitet; f ) neuer Anhang zu Ablösemittel ergänzt; g) redaktionelle Änderungen.