Liebe Kundinnen, liebe Kunden,
im Jahr unseres 100-jährigen Bestehens stellen wir uns als Teil der DIN-Gruppe für die Zukunft auf – mit einem neuen Namen.
Am 22. April 2024 ist es so weit:
Aus Beuth Verlag wird DIN Media.
Mehr über unsere Umbenennung und die (Hinter)Gründe erfahren Sie hier.
Herzliche Grüße
Ihr Beuth Verlag
Montag bis Freitag von 08:00 bis 15:00 Uhr
Norm [AKTUELL]
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Die Norm legt Anforderungen für die äußeren Abmessungen des Tragrings einer Maske für die Röntgentiefenlithographie fest. Ziel ist, dass die Masken von unterschiedlichen Nutzern in die Belichtungsgeräte der Röntgenlithographie-Zentren eingebaut werden können. Auf eine Normung der inneren Abmessungen des Maskentragrings, die Fixierung des Maskensubstrats auf dem Maskentragring und der Geometrie des Layoutfeldes wird verzichtet. Damit werden den unterschiedlichen Anforderungen der Nutzer an die Röntgenlithographie Rechnung getragen und Einschränkungen für zukünftige Entwicklungen ausgeschlossen.
Die Norm enthält Empfehlungen für die inneren Abmessungen des Maskentragrings, die aus Erfahrungswerten der beiden deutschen Zentren für Röntgenlithographie stammen (BESSY Berlin und Forschungszentrum Karlsruhe).
Die Norm wurde vom Arbeitsausschuss NA 027-03-03 AA "Fertigungsmittel für Mikrosysteme" im NAFuO erstellt.