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Norm [AKTUELL]
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Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung der Massenanteile der Elemente Al (Aluminium), As (Arsen), Ba (Barium), Be (Beryllium), Ca (Calcium), Cd (Cadmium), Co (Kobalt), Cr (Chrom), Cu (Kupfer), Fe (Eisen), In (Indium), K (Kalium), Li (Lithium), Mg (Magnesium), Mn (Mangan), Mo (Molybdän), Na (Natrium), Ni (Nickel), Pb (Blei), Sb (Antimon), Sr (Strontium), Ti (Titan), V (Vanadium), Zn (Zink) und Zr (Zirconium) im Spurenbereich auf einer Siliciumscheiben-Oberfläche fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) eingesetzt wird.
Das Verfahren gilt für Elementspuren-Massenanteile von 10 ng/kg bis 10 000 ng/kg in der Scanlösung.
Dieses Dokument gilt nur für Siliciumscheiben, die eine durch Fluorwasserstoff zersetzbare Schicht auf ihrer Oberfläche aufweisen.
Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozesschemikalien für die Halbleitertechnologie" im Normenausschuss Materialprüfung (NMP) im DIN erarbeitet.