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Norm-Entwurf [ZURÜCKGEZOGEN]
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Dieser Norm-Entwurf legt ein Verfahren zur Bestimmung der für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Ag, Al, As, Ba, B, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Sb, Sr, Ti, V, W, Zn und Zr in Salzsäure im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma als Ionenquelle (ICP-MS) eingesetzt wird.
Die beschriebenen Verfahren gelten für Metallspuren-Massenanteile von 100 ng/kg bis 10 000 ng/kg. Das Abdampfverfahren nach 5.3 ist auch auf andere verdampfbare Flüssigkeiten anwendbar, sofern die Wiederfindungsraten der Analyte zwischen 70 % und 130 % liegen.
Dieses Dokument (DIN 50451-7) wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.
Dokument wurde ersetzt durch DIN 50451-7:2017-09 .