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Norm [AKTUELL]
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Dieses Dokument gibt eine Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und zur Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probennahme und Probenvorbereitung, die für die Bestimmung von Verunreinigungen in hochreinen Chemikalien für die Halbleitertechnologie eingesetzt werden. Es gilt für Bestimmungen von Elementspuren in den Bereichen von Mikrogramm je Kilogramm und Nanogramm je Kilogramm. Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA „Prüfung von Prozesschemikalien für die Halbleitertechnologie“ im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.
Dieses Dokument ersetzt DIN 50451-5:2010-03 .
Gegenüber DIN 50451-5:2010-03 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Aufnahme von "modifiziertem PTFE (M-PTFE)" als geeigneter Werkstoff in Abschnitt 5; b) Fußnote "e - außer H3PO4" wurde aus Tabelle 1 entfernt; c) Vorgehensweise in 6.2 und 6.3 wurde präzisiert; d) redaktionelle Überarbeitung.