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Norm-Entwurf

DIN 50451-4:2024-01 - Entwurf

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

Englischer Titel
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of trace elements in liquids - Part 4: Determination of 34 elements in ultra pure water by mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS)
Erscheinungsdatum
2023-11-24
Ausgabedatum
2024-01
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
15

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Normen-Ticker 1
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Erscheinungsdatum
2023-11-24
Ausgabedatum
2024-01
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
15
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/3502192

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Einführungsbeitrag

Dieses Dokument legt ein Prüfverfahren zur Bestimmung der Massenanteile von 34 Elementen im extremen Spurenbereich in Reinstwasser fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) eingesetzt wird. Das Verfahren gilt für Elementspuren-Massenanteile von 10 ng/kg bis 1 000 ng/kg. Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

Inhaltsverzeichnis
ICS
29.045
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/3502192
Ersatzvermerk
Änderungsvermerk

Gegenüber DIN 50451-4:2007-02 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Abgrenzung von Direktmessung und Anreichungsverfahren insbesondere bei der Kurzbeschreibung des Messverfahrens (Abschnitt 5) und der Auswertung (Abschnitt 11); b) Detaillierung des Reinigungsverfahren in 7.2; c) Präzisierung des Messprozesses hinsichtlich Teilmenge und Blindwertkorrektur, siehe Abschnitt 10; d) Aktualisierung der Anforderung des Prüfberichts, entsprechend der vorgenommenen Änderungen; e) Aktualisierung der normativen Verweisungen und Referenzen; f) redaktionelle Anpassungen.

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