VDI/VDE 5575 Blatt 4:2018-09

Diese Richtlinie bezieht sich auf reflektive Röntgenoptiken, die auf der Nutzung der Totalreflexion sowie auf Multischichtsystemen auf Basis der Braggreflexion an inneren Grenzflächen zur Beeinflussung der spektralen Zusammensetzung und der Richtungscharakteristik beruhen. Die physikalischen Prinzipien und bestimmende Parameter dieser Röntgenspiegel werden beschrieben. Die Rolle und der Einfluss von Substrat und Beschichtung werden im Detail erläutert und Totalreflexions- und Multischichtspiegel für verschiedene Anwendungen diskutiert. Die gebräuchlichsten röntgenoptischen Systeme, die Röntgenspiegel nutzen, wie Kirkpatrick-Baez-, Wolter-, Schwarzschild-, Montel- und EUVL-Optiken, werden kurz vorgestellt. Diese Richtlinie wendet sich an Anwender, Entwickler und Hersteller von Röntgenspiegeln. Typische Anwendungsgebiete sind Laborgeräte, die Röntgenstrahlung z.B. für Diffraktion, Spektroskopie, Streuung, Tomografie und Mikroskopie nutzen, aber auch die Instrumentierung für Synchrotronstrahlung an Elektronenspeicherringen und Freie-Elektronen-Lasern. Weitere Anwendungsfelder sind die EUV-Lithografie und die Röntgenastrophysik.

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