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Norm [ZURÜCKGEZOGEN]
DIN 50453-2:1990-10
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren
- Englischer Titel
- Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method
- Ausgabedatum
- 1990-10
- Originalsprachen
- Deutsch
- Seiten
- 2
- Ausgabedatum
- 1990-10
- Originalsprachen
- Deutsch
- Seiten
- 2
- DOI
- https://dx.doi.org/10.31030/2380725
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ICS
29.045
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/2380725
Ersatzvermerk
Dokument wurde ersetzt durch DIN 50453-2:2023-08 .
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