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Norm [AKTUELL]

DIN 50453-2:1990-10

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren

Englischer Titel
Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method
Ausgabedatum
1990-10
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
2

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Ausgabedatum
1990-10
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
2
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/2380725

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ICS
29.045
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/2380725

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